第二百一十二章 请先生赴死！

    第二百一十二章 请先生赴死！ (第1/3页)

    云帝笑了笑，拿着烟的手指点了点那本工作证。

    程进有些无奈了。

    看个毛线！

    难道工作证里面卿云级别比萧雅更高？

    那他倒是会怀疑这个工作证是不是假的了。

    毕竟高校也是体制，这里面有擢升，比如他，年纪轻轻便做了二级学院的院长。

    但擢升也是有年龄限制的。

    否则以他的‘成就’，立马评上院士都不为过的，不用非得等40岁。

    看着他脸上的迟疑，云帝也是无语了，不耐烦的说着，

    “打开看看！又不费你什么事的。再说了，你一个将死之人，我犯得着骗你吗？”

    程进闻言又是一个白眼。

    虽然他和卿云接触的时间很短。

    但，其实，谁特么的不了解谁啊？

    君子喻以义。

    而他和卿云都是喻于利的小人，这一点他是不会看错的。

    只是说，社会的毒打，让程进很清楚，这个分类是中间地带的，不是非此即彼的。

    卿云图的是在保全他自己的小利基础上，努力在争取国家或者民族的大利。

    黑到至极便是白？

    程进摇了摇头，如卿云所愿的一般，打开了工作证。

    不出所料，他呆住了。

    “这……这……”

    实现了恶趣味的云帝，嘿嘿的笑着，提醒着他，“钢印在哈，伱再看看日期。”

    程进先是将工作证放在腿上，双手在裤腿上用力的擦了擦，这才把工作证捧在手里，仔细看着。

    “1999年？”

    看着上面的日期，程进嘴唇哆嗦了起来。

    云帝乜了他一眼，淡淡的说着，“这个日期，可以把你从摩托骡拉偷图纸的行为，解释为……你懂的。”

    说罢，他叹了口气，望着程进诚恳的说道，“老师，我能为你做的，我都做了。”

    程进合上工作证将其双手按在自己胸膛上，闭上了眼睛，不过眼泪却从眼角处流了出来，喃喃的说道，“你早就算好了的。”

    也不管程进看不看的见，卿云对着他摇了摇头，“不是，坦率的说，是前两天临时起意的。”

    他拍了拍面前的中控台，继续说着，“原本我的计划里，此刻就是送你上路的时间。只不过……”

    望着睁开眼睛的程进，云帝笑了笑，“毕竟师生一场，我担心以后你阴魂不散的，让我晚上睡不着觉。

    而且，老实说，你成为烈士，我的利益可以最大化。”

    程进抹了抹脸庞，笑了，“谢谢！”

    抽了一张纸巾擤擤鼻涕后，他吸了吸鼻子，脸上却浮现起坚毅的神情，“需要我做什么？”

    卿云递过去一张照片，“后天，荷兰有一个半导体行业的峰会，我用炎黄集团的名义搞到了一张邀请函。

    你在明珠港转机的时候，会遇见他，杀了他。”

    程进闻言皱起了眉头，“怎么是他？”

    他的疑惑有很多，比如怎么杀，杀了之后他又该如何，当场自杀？

    但相比起照片上的人而言，这些都是细枝末节了。

    在他看来，这太不可思议了。

    云帝乜了他一眼，“认识？”

    程进回了一个白眼，“废话！我也是干这行的！虽然我确实水了点，但我毕竟是做科研的，行业领域内什么新动向我还是知道的。”

    他手指点了点照片，“林本坚，夷积电高级工程师，在当前193nm光刻光源停滞了二十多年无法突破下，去年提出了浸入式光刻技术，算是一个另辟蹊径的发展方向。”

    说到这里，他摇了摇头，“但是，他的理论，并不被当前的市场所接受。去年提出的时候，没有市场买单。

    现在的路径一共四大阵营，尼康占主导的157nm激光、因特尔BMD摩托骡拉联合的13.5nmEUVLLC、NEC托西巴NTT和IBM联合的1nm接近式X光、朗讯贝尔实验室高的0.004nmEPL和0.00005nmIPL。

    后面两个算是浪漫阵营，纯理论研究，他们就没想过产业化的事情。

    而EUV太超前，短期内根本无法实现。

    我个人还是更看好尼康的干式157nm技术路径。”

    卿云笑了，他懒得和程进扯什么科学英雄史观的问题，更没兴趣和他聊技术路径路径，开口说道，

    “荷兰的ASML正在和林本坚一起共同攻坚浸入式光刻技术。”

    程进闻言摇了摇头，“没用的，浸入式通过水滴折射确实可以跳过157nm，直接做到134nm波长，而后就会被65nm的最高生产分辨率给卡住，到时候怎么办？

    小卿，光刻是要遵循瑞利公式的，λ为光源波长、NA为数值孔径、k为光刻工艺系数，三者共同决定投影式光刻机分辨率CD。

    光刻机的分辨率与光源波长成正比，想要制造出更小的尺寸，就需要缩短光源的波长，这也是光刻机世代演变的核心。

    所以，你不管怎么折射，最终还是要通过光源的波长来解决问题。”

    熟知后事的卿云很清楚，程进说的是对的。

    浸入式、浸没式、浸润式，其光源都是193nm激光器，随后是根据瑞利公式的另一个参数：孔径，来实现精度的提高。

    再之后，便是二次曝光技术，同样是基于193nm的光源。

    而最终，在DUV后，ASM

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